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铁钴合金靶材是由高纯的钴和铁原料经过高真空熔炼得到的，钴含量可以为 5%、10%、15%、20%等，钴与铁是无限固溶的，经过精细的热加工后，晶粒细小均匀，纯度高，密度大。产品广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜。

氧化镍靶材（NiO）是一种重要的材料，具有高纯度和特定的晶体结构，以及优异的电学和磁学性质。广泛应用于薄膜沉积技术中，特别是在半导体器件、光电设备及高性能薄膜的制造过程中。

碳化镍靶材是一种用于镀膜工艺的溅射靶材。它主要由镍和碳组成，具备较高的硬度、熔点和化学稳定性等特点。广泛用在一些电子器件、光学涂层、耐磨涂层等领域。

镍铬铝钇硅合金靶材是由镍（Ni）、铬（Cr）、铝（Al）、钇（Y）和硅（Si）按一定比例合成的先进材料。它还具备优异的耐磨和耐蚀性能，使其在恶劣工作条件下表现出色。它是一种具有特殊性能和广泛应用的材料。

镍铬硅溅射靶材是一种包含Ni, Cr和Al的合金溅射材料。它具有较高的电阻率，良好的表面特性，耐高温，并且在高温下有较高的强度。它在冶金、家用电器、机械制造业等领域中作为发热元件和电阻材料得到广泛应用。

镍钴合金靶材是一种由高纯镍和钴经过高真空熔炼制成的靶材，具有良好的硬度、强度、导电性和导热性。同时，它还表现出较好的耐腐蚀性和抗氧化性。这种材料在电真空器件中有着广泛应用。

镍钨合金溅射靶材由镍（Ni）和钨（W）两种金属组成，通常以粉末冶金法制备。这种合金结合了镍的低电阻系数和良好的加工性能，以及钨的高熔点和优异的耐腐蚀性能。广泛应用于集成电路和金属化薄膜的制备中。

镍钛合金靶材是由高纯镍和钛熔炼铸造得到的靶材，纯度达到99.9%以上，广泛应用于医疗领域，电子领域，航空航天领域，工业领域等。

镍铁合金靶材的含镍量范围很广，从10%至90%。物理性质方面，它具备一定的硬度、强度和良好的导电性、导热性。在化学性质上，它表现出较好的耐腐蚀性和抗氧化性。它被广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、工件表面涂层等领域。

镍钒合金靶材是一种特殊的材料，它在制备过程中会在镍熔体中加入钒，以此制备出的合金更有利于磁控溅射。它被广泛应用于航空航天、太阳能光伏企业、光学镀膜、熔炼、电子信息、半导体集成电路、平板显示、记录介质、工件表面涂层等领域。

镍铝合金靶材是一种用于物理气相沉积(PVD)工艺的材料，主要用于制造各种薄膜和涂层。这种靶材主要由镍和铝两种金属元素组成，纯度可以达到3N5（99.95%），规格通常是平面靶材，具有优异的耐腐蚀性、耐磨性和高温性能。

坩埚的选择取决于具体的生产要求和工艺。不同的材料有不同的沸点，因此需要定制坩埚才能充分沉积。还需要考虑密度和热导率等因素。

镍铬合金靶材是一种在物理气相沉积（PVD）等过程中，作为溅射或蒸发源的材料。它具有高纯度、良好的耐腐蚀性和高温强度，适用于半导体制造、磁性材料制备、薄膜涂层和化学催化等领域

氧化铜靶材是一种用于溅射镀膜工艺的靶材，由氧化铜粉末通过压制、烧结等工艺制备靶材。主要用于各种工业和科研应用。

铜锰合金靶材是一种用于磁控溅射镀膜的金属靶材，通常由高纯金属锰和铜制成。它还是一种用于半导体制造过程中的高纯溅射靶材，它在集成电路的金属互连层、金属接触层、扩散阻挡层等的制备中发挥着重要作用。