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行业资讯

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2024-05

关于氧化铜靶材性能,制备方法及其应用介绍

氧化铜靶材是一种用于溅射镀膜工艺的靶材,由氧化铜粉末通过压制、烧结等工艺制备靶材。主要用于各种工业和科研应用。

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2024-05

关于铜锰合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜锰合金靶材是一种用于磁控溅射镀膜的金属靶材,通常由高纯金属锰和铜制成。它还是一种用于半导体制造过程中的高纯溅射靶材,它在集成电路的金属互连层、金属接触层、扩散阻挡层等的制备中发挥着重要作用。

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2024-04

关于铜镓合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜镓合金靶材它由铜和镓两种金属组成,通过熔炼-轧制的方法制成,晶粒尺寸较小,致密度较高。铜镓合金靶材是一种用于形成CIGS类太阳能电池光吸收层的关键材料。

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2024-04

关于铜锡合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜锡合金靶材是一种由铜(Cu)和锡(Sn)两种金属元素组成的特殊合金材料。这种靶材在溅射沉积过程中具有优良的导电性能和热稳定性,能够提供高质量的沉积层。铜锡合金靶材可以用于各种镀膜技术。

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2024-04

关于铜镍合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铜镍合金靶材是一种银白色的金属靶材,具有金属光泽。在纯铜材料中加入镍能够显著提高强度、耐蚀性、硬度、电阻和热电性,并降低电阻率温度系数。铜镍合金靶材在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

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2024-04

关于氧化铝靶材性能,制备方法及其应用介绍

氧化铝靶材也称为三氧化二铝靶材,采用粉末冶金方式制备,广泛用于半导体制造、光学涂层、表面工程、微电子器件、光学元件等领域。

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2024-03

关于铝铌合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝铌合金靶材由高纯铝和铌原料制成,具有高熔点、低密度的特点。该材料广泛应用于微电子、半导体芯片、光伏等高端产业。

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2024-03

关于铝钛合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝钛合金靶材主要由铝和钛两种金属元素组成,将铝粉和钛粉按一定比例混合,通过热等静压烧结得到铝钛靶。主要用于装饰镀膜、镀膜玻璃、工模具镀膜、太阳能电池镀膜等。

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2024-03

关于铝锡铜合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝锡铜合金靶材是一种特殊的金属材料,主要由铝、锡和铜三种金属元素组成。采用粉末冶金法制备,主要应用领域包括:电子信息产业、玻璃镀膜、半导体领域等。

09

2024-03

关于铝铬合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝铬合金靶材是一种重要的材料,广泛应用于硬质合金刀具等工具及热处理模具镀膜领域。采用热等静压工艺生产,这种工艺可以确保靶材具有高密度、细小均匀的晶粒结构,从而提高了靶材的溅射效率和使用寿命。

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2024-03

关于铝铜合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝铜靶材很坚硬,熔点是640℃,一般是1~3%的铜组成,跟金属铝的化学性质相似,轻而抗张强度大。主要用于集成电路、太阳能电池、平板显示等领域。

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2024-02

关于铝硅合金靶材性能,制备方法及其应用介绍

铝硅合金靶材是一种用于溅射镀膜的材料,通过铸锭、热处理、轧制、后进行机加工得到铝硅靶材。硅铝合金靶材具有良好的导电性、导热性和耐热性。广泛应用于半导体、光学、电子等领域。

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2024-01

铝钪合金靶材制备方法及其应用

铝钪合金靶材的组成主要是由铝、稀土和钪组成,是一种重要的材料。被广泛应用于航空航天、核能、化工等领域。这种合金具有出色的力学性能、良好的耐腐蚀性和耐高温性,因此成为许多高温、高压环境的理想材料。

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2024-01

关于镝靶材性能制备方法以及应用介绍

镝靶材是由镝金属制成的平面靶,主要用于磁性薄膜、耐磨涂层、耐腐蚀涂层和真空镀膜。如果您需要了解更详细的信息,建议点击咨询。

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2024-01

铽靶材是什么材料以及它的制作和应用

铽靶材是指由铽元素制成的用作射线源的靶材,通过铸坯,热处理工艺加工而成,主要用于电子半导体、镀膜玻璃、薄膜太阳能工业等应用领域。

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